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                    • 密閉制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。密閉制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

                      更新時(shí)間:2023-12-21

                      廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家

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                    • 制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。制冷加熱設備-40℃~200℃拖二配套原理

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                    • 高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。高低溫體機-40℃~200℃拖二配套原理

                      更新時(shí)間:2023-12-21

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                    • 高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。高低溫冷卻循環(huán)器-40℃~200℃拖二

                      更新時(shí)間:2023-12-21

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                    • 制冷加熱循環(huán)裝置-40℃~200℃(拖二系統)

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。制冷加熱循環(huán)裝置-40℃~200℃(拖二系統)

                      更新時(shí)間:2023-12-20

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                    • 反應釜控溫系統-40℃ ~ 200℃(拖二系統)

                      應用于對玻璃反應釜、金屬反應釜、生物反應器進(jìn)行升降溫、恒溫控制,尤其適合在反應過(guò)程中有需熱、放熱過(guò)程控制。反應釜控溫系統-40℃ ~ 200℃(拖二系統)

                      更新時(shí)間:2023-12-20

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